歐界報道：
高精度芯片制造的關鍵設備——光刻機，是半導體行業的重中之重，而光刻膠作爲光刻機制造芯片時的關鍵材料，其地位更是舉足輕重的。光刻膠能否國産化生産，關系到中國近萬億半導體市場的正常運轉。
光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一，特別是近年來大規模和超大規模集成電路的發展，更是大大促進了光刻膠的研究開發和應用。光刻膠的技術複雜，品種較多。根據其化學反應機理和顯影原理，可分負性膠和正性膠兩類。光照後形成不可溶物質的是負性膠；反之，對某些溶劑是不可溶的，經光照後變成可溶物質的即爲正性膠。利用這種性能，將光刻膠作塗層，就能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。