衆所周知，隨著中國制造向中國智能制造的轉變，中國已經超過美國成爲全球最大的芯片消費國，世界芯片制造産業也不可避免地向中國轉移。雖然中國每年進口的芯片超過了3000億美元，正在建設的晶圓廠也達到了57個，芯片産業發展得如火如荼，但是芯片制造最關鍵的環節光刻機卻成了我國芯片産業的發展的死穴。因爲中國只能生産90nm以上低端光刻機，而先進的高端光刻機都掌握在國外廠商手裏，甚至有錢也買不到。
那麽中國真的造不出高端EUV光刻機嗎？答案是肯定的，目前我國確實造不出這樣的高端EUV光刻機。雖然中ASML高調表示，即使沒有美國的許可證也要賣給中國，但同時也表示：我們正在等待政府的許可證，如果最終等不到許可證，我們會將設備轉賣給其他客戶。由此看來，我們不僅造不出這樣的高端EUV光刻機，即便想買到也沒有這麽容易，中芯國際訂購的光刻機就是一個明顯的例子。
目前，全球高端光刻機被ASML、尼康、佳能所壟斷，2018年全球高端光刻機總計出貨374台，其中ASML的高端光刻機銷售量120台，10nm以下的EUV光刻機更是占據了全球100%的市場，甚至就連佳能、尼康幾乎已經退出10nm以下光刻機的市場。但是中國芯片産業發展如火如荼，卻沒有高端光刻機的支持，這也是爲什麽中國芯片産業發展緩慢的原因之一。
雖然這台設備技術上前景很牛，通過多重曝光技術甚至可以生産10nm以下的芯片，要想真正用于芯片制造必須要流程再造，但是有志者事竟成，畢竟商業化之路是很漫長的。盡管如此，這台光刻機的研發成功對我國光刻機進步的意義是不言而喻的，可以說是開辟了有別于國外光刻機的技術路徑，實現了中國真正自主創新。