多家外媒消息稱，早在3月4日中芯國際從荷蘭引入的一台大型光刻機，就已進入該企業深圳廠區工作運行，主要用于企業複工複産後的生産線擴容，從而穩固提升企業生産效率及營收。
不過從中芯國際有關負責人處證實，此次荷蘭發貨的光刻機並非是外界一直關注的極紫外光刻機（EUV），而是一台DUV常規設備。盡管沒有EUV技術，但沉浸式DUV光刻機依然可以制造28nm到7nm之間的各種芯片，所以對于中芯國際而言仍然幫助巨大。
說實在的，對于我國一些科技企業而言，這台光刻機設備還遠不能滿足發展需求，所以極紫外光刻機仍是需要追求的目標。即便有外力阻撓，中芯國際等企業還是要想辦法克服困難拿到一台極紫外光刻機。
據了解，2018年中芯國際就向荷蘭阿斯麥爾（ASML）公司訂購了一台最新型的極紫外光刻機，計劃去年初交貨。可惜的是，由于美國從中作梗，不斷向荷蘭施壓導致這份價值1.5億美元的合同遲遲未能履行。
只要相關半導體企業保持住現在刻苦鑽研的勢頭，相信在不久的將來就能夠突破美國設置的技術壁壘。道阻且長行則將至，未來“中國芯”必然會走向世界取得輝煌成就。
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