光刻機是半導體制造設備中價格占比最大，也是技術含量最高最核心的設備，涉及精密光學、精密運動、高精度環境控制等多項先進技術，其設備投入相應最多，被譽爲是半導體産業皇冠上的明珠，每顆芯片誕生之初，都要經過光刻技術的鍛造。
中外光刻機差距巨大
光刻機被稱爲人類最精密複雜的機器，業界將其譽爲集成電路産業皇冠上的明珠，研發的技術門檻和資金門檻非常高。也正是因此，能生産高端光刻機的廠商非常少，到最先進的5/7nm光刻機就只剩下ASML，日本佳能和尼康已經基本放棄EUV光刻機的研發。
目前，光刻機領域的龍頭老大是荷蘭ASML，並已經占據了高達80%的市場份額，壟斷了高端光刻機市場。ASML最先進的EUV光刻機售價曾高達1億美元一台，且全球僅僅ASML能夠生産。Intel、台積電、三星都曾經是它的股東，Intel、三星的高端光刻機都是買自ASML，格羅方德、聯電以及中芯國際等晶圓廠的光刻機主要也是來自ASML。
我國要實現科技領域的崛起，要實現工業升級的大戰略，必須要有過人的硬實力。這種硬實力的體現就是科技領域全方位的強盛。這種走向強盛的推力除了內部的自我鞭策，外力的主推也是一股不可忽視的力量。
回顧曆史，在筆者看來我國在科技領域的重大突破大多與外部力量有關，如兩彈一星的成功，軍工領域的長足進步以及最近芯片領域的不斷突破等。光刻機領域的發展在外部力量的倒逼之下，會引來更多的資源傾斜，該産業鏈的加速發展是值得期待的。