光刻機有多難？爲什麽華爲建不起來？答案很簡單。近年來，華爲迅速崛起。到目前爲止，華爲仍然是中國技術積累最多的公司，多達70000項專利已成爲華爲的基礎。不過，華爲似乎對目前的形勢並不滿意。資料顯示，華爲每年在研發上投入數百億美元，在芯片設計上取得重大突破。
說到這裏，一定有一個小夥伴想說，那我們可以自己造一台光刻機？事實上，並不是那麽簡單。光刻機之所以能成爲頂尖技術的代表，是因爲它的技術難度太大。目前，中國只有90nm光刻機，與荷蘭公司相距甚遠。
數據顯示，光刻機需要經曆很多複雜的工藝過程，包括試驗台、曝光台、激光器、光束校正器、能量控制器、光束形狀設定等，每一道工序都必須精益求精，需要上百個零件支撐操作，可以說是極其精確。
事實上，荷蘭阿斯梅爾公司的發展並不順利，在這家公司的背後，有許多高科技公司，如英特爾、海力士和台積電，它們的成功並非一蹴而就。但是，我們相信，我們國家只有堅定不移地朝著一個目標努力，我們才能實現成功超越。