很多人都知道半導體工藝中光刻機是最核心的，因爲它決定了半導體工藝的技術水平，而且成本能占到整個芯片的1/3。在進入7nm節點之後，光刻機也需要升級到EUV光刻機，目前僅有荷蘭ASML公司能造，該公司CEO表示EUV光刻機非常複雜，沒有可能被複制，全球只有ASML能生産。
據荷蘭媒體報道，在1月22日的ASML財報會議上，ASML公司CEO Peter Wennink談到了EUV光刻機的問題，他解釋說ASML是EUV光刻機的系統集成商，這套設備集成了全球數百家公司的技術，擁有超過8000多個零部件，許多零件都是非常複雜的。
Peter Wennink表示，以鏡頭爲例（注：物鏡系統是光刻機三大核心之一，其他兩個是激光系統、工作台），卡爾蔡司爲ASML提供光學鏡頭，集成了各種反光鏡及光學部件，世界上沒有哪家公司能夠複制他們的技術。
Peter Wennink強調，ASML的光刻機裝有傳感器，一旦檢測到異常情況就會發出警報。
根據ASML財報的最新財報，2019年該公司交付了26台EUV光刻機，遠超上一年的18台，預計2020年交付35台EUV光刻機，2021年則會達到45台到50台的交付量，是2019年的兩倍左右。