日前，美光在新加坡慶祝其Feb 10工廠擴建完成，美光方面表示，雖然新擴建的潔淨室並不能增加其晶圓産能，但是能讓美光繼續生産工藝要求較高的多層閃存産品。
據了解，美光新的3D NAND生産設施占地面積16.5萬平方米，目前新擴展出來的工廠正在進行設備安裝，預計今年下半年將投産96層的3D NAND産品。具體生産安排會根據實際需求確定。
此次美光擴建工廠後，雖然不會增加晶圓産能，但是更高水准的潔淨室能讓美光繼續生産更高層數的3D NAND産品，3D NAND層數越多，所需要刻蝕的時間也就越長，這要求潔淨室的環境符合更嚴格的標准。
美光表示，未來將擴大在新加坡的研發業務，從而進一步提高Fab 10工廠的産能和良品率。
來源：IT之家
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