科技股又爆發，光刻膠行情或貫穿全年

1月20日，近期市場陰風再起，傳聞美國政府考慮限制中國從美國獲取半導體方面的技術，並企圖阻撓荷蘭阿斯麥公司向中國出售産品。雖說此消息空穴來風，且光刻機供應商ASML的極紫外光（EUV）光刻機，主要用于7nm及以下的工藝開發，短期對國內主流先進工藝28nm以及中芯國際目前研發14nm的影響不大，但光刻機作爲半導體制造業中最核心的設備，是我國發展國産芯片的關鍵，未來高端芯片制造的發展絕不能受制于人，現階段逐步實現光刻機設備及相關材料的突破已然至關重要。